通過真空磁控濺射技術實現(xiàn)高效鍍膜:在真空腔室內，靶材(鍍膜材料)受磁場約束的離子轟擊，濺射出原子或分子，這些粒子沉積到勻速移動的基材表面形成膜。生產線采用多腔室串聯(lián)設計，基材經清洗、鍍膜、后處理等環(huán)節(jié)連續(xù)通過，各腔室獨立控制真空度與氣體成分(如通入氧氣或氮氣合成化合物膜)。傳動系統(tǒng)確?；姆€(wěn)定運行，配合實時膜厚監(jiān)控動態(tài)調整工藝參數，保障膜層均勻性:廣泛應用于顯示面板、太陽能電池、汽車玻璃等領域。 技術特點： 大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大; 磁導向傳輸系統(tǒng)，平穩(wěn)可靠; 鍍膜前有離子源對基片進行表面清洗和活化，提高附著力，改善膜層質量; 真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力; 便于維修的側裝分子泵和全開式真空室門; 自行開發(fā)的方便的用戶易操作控制軟件: 真空室的模塊式設計，單點定位，便于拆裝。