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碳化硼靶材B4C磁控濺射靶材

產品信息

產品詳細

科研實驗專用碳化硼靶材B4C磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產品介紹       碳化硼(B4C),別名黑鉆石,堅硬黑色有光澤晶體,具有密度低、強度大、高溫穩(wěn)定性以及化學穩(wěn)定性好的特點;硬度比工業(yè)金剛石低,但比碳化硅高;不受熱氟化氫和硝酸的侵蝕,溶于熔化的堿中,不溶于水和酸,是已知堅硬的三種材料之一(其他兩種為金剛石、立方相氮化硼),用于坦克車的裝甲、避彈衣和很多工業(yè)應用品中;碳化硼可以吸收大量的中子而不會形成任何放射性同位素,因此它在核能發(fā)電場里它是很理想的中子吸收劑;碳化硼制造容易、成本低廉,因而使用更加廣泛,在某些地方可以取代價格昂貴的金剛石、常見在磨削、研磨、鉆孔等方面的應用。 產品參數(shù) 中文名碳化硼            分子式B4C 相對分子質量 55.26      沸點 大于3500℃ 熔點 2350℃             密度 2.52g/cm3 支持靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價?。?nbsp; 服務項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊睿|量保證,售后無憂! 產品附件:發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝 適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備  質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。  加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫        陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!        我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。        注意:高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!        建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

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