201氧化鈰拋光粉        概 要 201  拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經(jīng)日本技術生産而成。201氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃材質(zhì)，磨耗度100以上600以下各類光學產(chǎn)品冷加工 201  氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸鑭鈰稀土，精選原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、研磨精度高等特點。   用 途 用于光學冷加工，光學鏡頭鏡片，棱鏡等 特 徵 切削力均衡、懸浮好、不發(fā)生劃傷、表面精度高。   産品技術參數(shù)（參考資料，非保證數(shù)值）   品 種 平均粒徑（μ m） TREO（%） CeO2（%） ZL201 0.8-1.0 95 70   ※平均粒徑用激光粒度儀測定。（MICROTRAC  PARTICLE  SIZE  ANALYZER HRA） ※TREO（TOTAL  RARE  EARTH  OXIDE）：總氧化稀土含量。   包 裝：20kg硬紙箱（內(nèi)包裝爲塑膠袋）